Zum neunten Mal in Folge hat Hasselblad zehn Fotografen unterschiedlicher Couleur zu „Hasselblad Masters“ gekürt:
Der Preis wurde in den zehn Kategorien Architektur, Editorial, Mode / Beauty, Fine Art, allgemeine Fotografie, Natur / Landschaft, Porträt, Hochzeit / Soziales und aufstrebender Künstler vergeben. Bewertungskriterien waren dabei Kreativität, Gestaltung, Konzept und Beherrschung des Handwerks. Annähernd 3000 Fotografen, so Hasselblad, und damit fast doppelt so viele wie noch 2008, haben Arbeiten eingereicht.
Die Nominierten erhalten neben dem Titel „Master“ Zugriff auf eine Hasselblad H4D, eine Filmkamera, und ein Drehbuch. Die realisierten Projekte werden dann von Hasselblad präsentiert, auch ein Buch und eine Feier während der photokina 2010 sind geplant.
Hier die Gewinner des „2009 Hasselblad Masters Award“:
Up-and-Coming: Lyle Owerko, NYC, USA
Hochzeit: Joao Carlos, NYC, USA
Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
Mode: Dirk Rees, London, England
Produkt: Mark Holthusen, San Francisco, USA
Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
Architektur: Stephan Zirwes, Stuttgart, Deutschland
Landschaft: Bang Peng, Hong Kong
Editorial: Nina Berman, NYC, USA
Allgemein: Mark Zibert, Toronto, Kanada
(thoMas)
Quentin Shih erinnert an
Malerei von Jan Balet.